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Das Dokument ist öffentlich zugänglich im Rahmen des deutschen Urheberrechts.Epitaxy of group IV Si-Ge-Sn alloys for advanced heterostructure light emitters
Jülich : Forschungszentrum Jülich GmbH, Zentralbibliothek, Verlag, [2018], copyright 2018[Online Ressource]